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三温晶圆盘

简要描述:晶圆加热盘(Wafer Heating Plate),也称为加热台或加热器,适用领域:半导体、芯片、OLED光学变温、晶圆测试等。它主要用于在加工晶圆时,对晶圆进行精确的温度控制,以确保制造过程中的稳定性和高质量,可用于各类探针台,温控同时进行电学测试。

  • 产品型号:
  • 更新时间:2026-05-19
  • 访问次数:10
  • 产品地址:苏州市吴江区江陵街道云创路233号

详细介绍

产品简介:

晶圆加热盘(Wafer Heating Plate),也称为加热台或加热器,适用领域:半导体、芯片、OLED光学变温、晶圆测试等。它主要用于在加工晶圆时,对晶圆进行精确的温度控制,以确保制造过程中的稳定性和高质量,可用于各类探针台,温控同时进行电学测试。

产品参数:

产品名称

晶圆三温系统

冷热方式

电阻加热,液氮制冷

温度范围

-80~200℃

温度稳定性

±0.5℃

温度分辨率

0.1℃

温度传感器

热电偶

温控方式

PID

腔室

真空/气密

腔体内部及管道无凝结水、雾

腔体表面常温

注:所述温度为陶瓷盘表面温度



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